1.粒徑愈用愈小。研磨設(shè)備從使用粒徑較大研磨球的攪拌式球磨機誕生，發(fā)展到使用粒徑較小的研磨珠的立式砂磨機、臥式砂磨機以及各種帶改良功能的超細研磨新一代砂磨機，使用的氧化鋯珠研磨介質(zhì)的粒徑愈來愈小。其主要有兩個推動原因：

A. 物料研磨最終細度微米化：由于研磨機內(nèi)的物料是通過運動中的研磨介質(zhì)的接觸作分散和研磨，研磨介質(zhì)粒徑越小而接觸點越多，最后達到較高的研磨效果及較小的研磨細度。例如粒徑為2mm硅酸鋯珠，每升約為20,000顆，而粒徑為1mm的顆粒達到約80,000，后者是前者的4倍。當使用較大粒徑鋯珠對某一產(chǎn)品進行研磨時，無論經(jīng)過多少道的砂磨，物料的粒徑始終未能達到要求的細度 ；而當改用粒徑較小的研磨珠時，效果即得到明顯的提高。

B. 砂磨機分離裝置的改進使用超細研磨珠成為可能 :允許使用的的氧化鋯研磨珠粒徑已成為評衡砂磨機質(zhì)量檔次的一重要指標。分離裝置設(shè)計和制作材料的每一次更新，都帶來了使用研磨珠顆粒變小的一次飛躍。分離裝置從靜止傳統(tǒng)的扁平Nickel網(wǎng)到帶三角橫梁的Johnson網(wǎng)以及到動態(tài)的環(huán)式分離器和套筒式Cartridge網(wǎng)，除使用壽命延長之外，能使用研磨介質(zhì)的粒徑越來越小，而同時又不明顯影響物料的流量。套筒式Cartridge網(wǎng)的代表（如美國Premier的速寶磨）所用的研磨鋯珠子達到0.2mm; 環(huán)式分離器的代表（如瑞士的Dyno-mill實驗室型）可用珠子粒徑也可達到0.2mm。而瑞士Buhler公司開始研制的離心式分離裝置，使分離原理從區(qū)分珠子粒徑大小轉(zhuǎn)為區(qū)分珠子密度大小，而使研磨珠的粒徑推向新的領(lǐng)域。

2.比重愈用愈大。通用的研磨珠如玻璃珠、石珠、硅酸鋯珠、純鋯珠和鉻鋼珠的比重依次遞增，而它們的硬度、抗壓強度和耐磨性除鉻鋼珠外也依次大。從動力學公式P=mv可知，珠子的沖量P與珠子的質(zhì)量m成正比，密度越大的珠子運動動能就越大，研磨效率也相對越高。

由于韌性較高的無機顏料（如碳黑、酞青藍、氧化鐵等）需要超細研磨，加之要追求更高的研磨效率和理想的光澤度，使用高密度的研磨珠業(yè)已成為一條解決途徑。而砂磨機生產(chǎn)商又配合了這一要求，主要有以下兩點原因使之成為可能：

A. 高輸入動能密度砂磨機的產(chǎn)生：現(xiàn)代砂磨機的發(fā)展趨勢之一是研磨缸的體積變小，而配置的馬達功率變大，所輸入動能密度就急劇大。

B. 砂磨機接觸件材質(zhì)質(zhì)量的提高 ：砂磨機的接觸件（如內(nèi)缸、分散碟、棒銷和分離裝置等）采用了堅硬耐磨的硬質(zhì)合金（如碳化鎢）及陶瓷（如碳化硅、氧化鋯等）等高性能的材料，可抵擋因如純鋯珠本身高動能和高硬度的沖擊和摩擦所帶來的磨損。

3.鋯珠的粒徑偏差愈來愈小。一方面是對物料細度的狹窄分布有一定貢獻，另一面是大大減小碎珠的產(chǎn)生而減少砂磨機接觸件的磨損和避免對產(chǎn)品的污染。如今市場上通用的金瑞研磨介質(zhì)粒徑偏差保持在0.2mm。均勻的珠子因制作工藝較復(fù)雜，所以市場價格也相對較高